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mr-NIL212FC 德國(guó)納米壓印光刻膠

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品牌 Micro Resist
  • 型號(hào) mr-NIL212FC
  • 產(chǎn)地 德國(guó)
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 更新時(shí)間 2025/7/2 15:14:59
  • 訪問次數(shù) 148

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半導(dǎo)體化工領(lǐng)域?qū)I(yè)實(shí)驗(yàn)設(shè)備供應(yīng)商:邁可諾是一家富有創(chuàng)新精神的高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實(shí)驗(yàn)室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)并營(yíng)銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實(shí)現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機(jī),光刻機(jī),顯影機(jī),等離子清洗機(jī),紫外臭氧清洗機(jī),紫外固化箱,壓片機(jī),等離子去膠機(jī),刻蝕機(jī),加熱板

納米壓印光刻 (NIL) 解決方案——高性能光刻膠,助力納米制造革命

——來自德國(guó) micro resist technology,納米壓印光刻材料的行業(yè)先驅(qū)



核心優(yōu)勢(shì)

? Excellence的薄膜質(zhì)量 | ? 高保真圖案復(fù)制 | ? 優(yōu)異的干法刻蝕性能
? 廣泛的印章兼容性 | ? 定制化解決方案 | ? 符合工業(yè)級(jí)安全標(biāo)準(zhǔn)(ISO 9001 & 14001)

應(yīng)用領(lǐng)域

l光子學(xué)(超表面、光柵、AR/VR)

l下一代電子器件(納米線、MEMS)

l生命科學(xué)與傳感器(微流控芯片、生物傳感器)


明星產(chǎn)品系列

1. UV-NIL 光刻膠

產(chǎn)品型號(hào)

核心特性

適用場(chǎng)景

mr-NIL210

專為 PDMS 類柔性印章優(yōu)化,極薄殘膠控制(<10nm),高均勻性

柔性基底、曲面壓印、快速量產(chǎn)

mr-NIL212FC

兼容低強(qiáng)度光源(<40>2(SiO?),適合精密金屬蝕刻

納米電子、金屬納米結(jié)構(gòu)制造

mr-NIL200

自粘附配方,無需底涂,專為硬質(zhì)印章(石英/OrmoStamp®)設(shè)計(jì)

高精度光學(xué)元件、硬質(zhì)基底壓印

mr-UVCuF26SF

溶劑型噴墨專用,低自發(fā)熒光,生物相容性佳

生物芯片、醫(yī)療器件

2.



2.



熱壓?。═-NIL)光刻膠

| mr-I 9000M | 熱固性樹脂,無玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg),耐高溫 260°C,yongjiu光學(xué)透明 | 高溫環(huán)境應(yīng)用(如封裝、光學(xué)透鏡) |
| mr-I T85 | 基于 COC 材料,耐酸堿/有機(jī)溶劑,超高紫外透過率 | 微流控芯片、透明器件 |

3. 創(chuàng)新工藝方案

NIL + 剝離工藝:結(jié)合 mr-NIL212FC/LOR 實(shí)現(xiàn)復(fù)雜金屬納米結(jié)構(gòu)(如 200nm 金屬網(wǎng)格)。

NIL + 深度刻蝕:通過含硅光刻膠 SiPOL 或硬掩模(SiO?)實(shí)現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)放大。





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