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Canon FPA5000 ES3 掃描式光刻機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 Canon/佳能
  • 型號 Canon FPA5000 ES3
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2025/6/5 11:27:15
  • 訪問次數(shù) 931

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

Canon FPA5000 ES3掃描式光刻機,主要用于6寸、8寸及12寸生產(chǎn)線,廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等域。

2. 設備特點

投影放大倍率:1/4 X,曝光光:(248nm DUV)。數(shù)值孔徑:(0.73~0.60,以 0.01 為增量),視場尺寸:26x33mm。曝光光:DUV(深紫外線)。強度: 低 17,000 w/m2。均勻度:+/- 1.0%。遮蔽刀片精度:最大 +/- 80 μm。

分辨率:<0.13μm 或更小。焦深:最小 R 0.6μm,圖像表面寬度:R 0.12μm 或更高,畸變度:<± 10μm。對焦/調平性能:聚焦重復性:<60nm (3sigma),調平重復性:<4ppm (3sigma),最小補償范圍:>100ppm。步長精度:17nm (3sigma),縮放比例:<±0.5ppm,正交度:<±0.5ppm。標線旋轉精度:<±0.3ppm。晶圓對準:<0.025μm 平均值 + 3sigma。光罩旋轉重復性:<R0.7ppm。標準尺寸:6 英寸方形 t=0.25 英寸(Patticle 檢查器)。材質: 石英。圖案材料:2 層 CR、3 層 CR。薄膜框架:僅圖案側支架 = 6.3mm。光罩顆粒檢查器規(guī)格:檢測分辨率:圖案表面:>0.6μm。玻璃表面:>15μm,表層表面:>20μm,檢測重復性: >95%,晶圓尺寸:標準 8 英寸(8 英寸至 12 英寸 SEMI 標準,JEIDA,缺口/平面,可選),吞吐量:125wph (30 shot)22mm ( 8“ 晶圓),吞吐量:73wph (64shot)22mm ( 12“ 晶圓),環(huán)境室規(guī)格:清潔度:1級(>0.1μm),控溫精度:+/- 0.1*C 以內(nèi)。腔室類型:CD140,空調:BCU-900,制冷劑:P3419481YH,調節(jié)劑:SC-216440。

佳能開發(fā)了一系列半導體光刻設備,旨在滿足除傳統(tǒng)半導體晶圓加工之外的廣泛應用的技術要求。

半導體芯片(也稱為集成電路,Integrated Circuit, IC)生產(chǎn)主要分為 IC 設計、 IC 制造、 IC 封測三大環(huán)節(jié)。 IC 設計主要根據(jù)芯片的設計目的進行邏輯設計和規(guī)則制定,并根據(jù)設計圖制作掩模以供后續(xù)光刻步驟使用。 IC 制造實現(xiàn)芯片電路圖從掩模上轉移至硅片上,并實現(xiàn)目標芯片功能,包括化學機械研磨、薄膜沉積、光刻、刻蝕、離子注入等步驟。 IC 封測完成對芯片的封裝和性能、功能測試,是產(chǎn)品交付前的最后工序。



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